标签：劳伦斯利弗莫尔国家实验室
4天前
劳伦斯利弗莫尔国家实验室（LLNL）正在探索一种新的激光技术，即拍瓦级铥激光器，这可能为半导体制造业带来革命性的变化。这项研究专注于大孔径铥（BAT）激光技术，旨在提高极紫外（EUV）光刻系统的效率，从而实现更快速、低功耗的芯片制造过程。 EUV光刻的能耗挑战 当前，EUV光刻是制造先进半导体的关键技术，但它面临着显著... 阅读全文
